主 講 人：陳寶欽
地 點：物理與信息工程學院南樓111報告廳
主 辦 方：物理與信息工程學院
開始時間：2017-05-16 10:10
講座介紹：
題目：微光刻與電子束光刻技術
1.微光刻技術的發展歷程，光學光刻技術，光學光刻分辨率增強技術，光學光刻如何一次又一次突破光刻分辨率極限，達到亞十納米尺度。
2.電子束光刻極限在納米CMOS集成電路研制和微納米加工技術中的應用，電子束光刻工藝技術，電子抗蝕劑工藝技術，微納加工數據處理技術。
3.微電子技術的發展與展望，中國集成電路制造業的發展，摩爾定律什么時候失效的問題，深化摩爾、拓展摩爾和超越摩爾。
4.和同學們交流談談：做人要正直，做事要勤奮，做學問要踏實；做好每一件簡單的事減少不簡單，做好每一件平凡的事減少不平凡；低下頭，從腳下最不起眼的路走起！
主講人介紹：
陳寶欽，博士生導師，中科院微電子研究所研究員，兼職中國科學院大學教授；北京電子學會半導體專業委員會副主任、制版分會主任；全國半導體設備與材料標準化技術委員會副主任、微光刻分委會秘書長；全國納米技術標準化技術委員會微納加工技術工作組副秘書長；中國科學院老科技工作者協會理事、微電子分會理事長、科學講師團成員。多年來一直從事光掩模與先進掩模制造技術、電子束光刻技術、微光刻與微納米加工技術研究和開發工作。在參加和合作開展的各項科研活動中獲多項科技獎，分別于1979年至2013年間先后獲國家科技進步獎二等獎兩項和國家技術發明獎三等獎一項；航天科工集團、北京市和中國科學院科技進步獎一等獎五項、二等獎六項；2013-2016年度中國科學院教育教學成果獎特等獎。先后為《中國大百科全書》撰寫“掩模制作技術”；為《現代高技術叢書》撰寫“微細圖形加工技術”；并參加《世界最新集成電路》大型集成電路工具書編譯工作，任副主編；策劃并合作編寫《高等院校電子技術教材-TANNER集成電路設計教程》；為國家自然科學基金委組織科學出版社出版的《半導體科學技術》撰寫“微光刻與微納米加工技術”；為中國軍事百科全書撰寫“微電子學與納米電子學”；為中國科學院《高技術發展報告》撰寫“集成電路工藝與設計技術最新進展”；為《集成電路工業全書》撰寫“掩模制造設備”。受國家技術監督局委托負責起草并制定十多項微光刻技術國家標準。發表或者合作發表論文有《中國光掩模制造與光刻技術現狀及發展趨勢》和《微光刻與微納米加工技術》等約100篇。
